产品名称：单面抛光硅片/双面抛光硅片

生长方式：直拉单晶（CZ）

工差：±0.4mm

掺杂类型：N型（掺磷，砷，锑） P型（掺硼）

晶向：<100>、<111>

电阻率：0.001-50(Ω•cm) 可按客户要求定制

工艺数据：平整度TIR:<3μm 、 翘曲度TTV: <10μm 、弯曲度BOW< 10μm 、粗糙度<0.5nm、颗粒度< 10 (for size > 0.3μm)

用途介绍：用于高校、科研所、高科技公司实验室用于同步辐射样品载体、PVD/CVD镀膜做衬底、磁控溅射生长样品、XRD、SEM、原子力、红外光谱、荧光光谱等分析测试 基底、分子束外延生长的基底、X射线分析晶体、TFT薄膜晶体管基底、纳米压印衬底，二维材料衬底等。