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产品介绍

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氧化离子注入镀膜沉积刻蚀晶圆键合CMP快速退火

光刻/离子注入/ 镀膜/刻蚀等科研代加工

市场价:6000.00

价格:5000.00

<span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);"></span><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);">光刻技术(Lithography Technology)：光刻一种精密的微细加工技术。常规光刻技术是采用紫外光作为图像信息载体，以光致抗光刻技术蚀剂为中间（图像记录）媒介实现图形的变换、转移和处理，最终把图像信息传递到晶片(主要指硅片)或介质层上的一种工艺。</span></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);"> </span></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);">镀膜工艺---Coating Technology：是指在真空条件下，采用物理轰击或者化学反应的方法将材料（俗称靶材或膜料）沉积在整个基材表面的一种技术。</span></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);"> </span></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);">电镀工艺是基材种子层光刻后，利用电解的原理，在露出金属的表面上，生长上一层金属或合金的过程，该工艺可以用来制作厚的导电层。</span></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);"> </span></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);">此产品属于定制产品，可根据客户需求来定制，如果需要设计，请联系我们客服或者联系林生，手机号码15019290020，我们竭诚为您服务！<br/></span></p><p><img src="http://pro791978.pic48.websiteonline.cn/upload/fr28.jpg" width="750" height="750" style=""/></p><p><img src="http://pro791978.pic48.websiteonline.cn/upload/42ib.jpg" width="750" height="750" style=""/></p><p><span style="font-size: 18px; color: rgb(0, 0, 0);"><br/></span><br/></p><p><br/></p><p><br/></p>

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