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产品介绍

产品介绍
3英寸 科研衬底 晶圆片单面抛光硅片 高纯度单晶硅

3英寸 科研衬底 晶圆片单面抛光硅片 高纯度单晶硅



产品名称:3英寸二氧化硅抛光硅片(SjO2)

生长方式:直拉单晶(CZ)热氧化工艺

直径与工差:76.2±0.4mm

掺杂类型:N型(掺磷 , 砷 , 锑) P型(掺硼)

晶向:<111><100>

电阻率: 0.001-50(Ω•cm) 可按客户要求定制

工艺数据:平整度TIR:<3μm 、 翘曲度TTV: <10μm 、弯曲度BOW< 10μm 、粗糙度<0.5nm、颗粒度< 10 (for size > 0.3μm)


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产品名称:3英寸二氧化硅抛光硅片(SjO2)

生长方式:直拉单晶(CZ)热氧化工艺

直径与工差:76.2±0.4mm

掺杂类型:N型(掺磷 , 砷 , 锑) P型(掺硼)

晶向:<111><100>

电阻率: 0.001-50(Ω•cm) 可按客户要求定制

工艺数据:平整度TIR:<3μm 、 翘曲度TTV: <10μm 、弯曲度BOW< 10μm 、粗糙度<0.5nm、颗粒度< 10 (for size > 0.3μm)


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